改變橢偏儀入射角的方法有兩種
2019-12-25
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自動(dòng)光譜橢偏儀光譜范圍覆蓋從深紫外到可見(jiàn)光再到近紅外.深紫外波長(zhǎng)非常適合測(cè)量超薄薄膜，比如納米厚度薄膜厚度，比如硅晶圓的薄膜厚度，典型值在2nm左右。對(duì)于測(cè)量許多材料的帶隙，深紫外光譜橢偏儀也非常重要。
橢圓偏振技術(shù)是通過(guò)研究光束在樣本表面反射后偏振態(tài)變化而獲得表面薄膜厚度等信息的薄膜測(cè)量技術(shù)。
與反射計(jì)或反射光譜技術(shù)不同的是，光譜橢偏儀參數(shù)Psi和Del并非在常見(jiàn)入射角下獲得。通過(guò)改變?nèi)肷浣谴笮?，可獲得許多組數(shù)據(jù)，這樣就非常有助于優(yōu)化橢偏儀測(cè)量薄膜或樣本表面的能力，因此變角橢偏儀功能遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于固定角橢偏儀。
改變橢偏儀入射角的方法有兩種，一種是手動(dòng)調(diào)節(jié)，一種是自動(dòng)調(diào)節(jié)入射角，我們可提供兩種模式的橢偏儀。
橢偏儀特點(diǎn)：
1、易于安裝
2、基于視窗結(jié)構(gòu)的軟件，很容易操作
3、的光學(xué)設(shè)計(jì)，以確保能發(fā)揮出*的系統(tǒng)性能
4、能夠自動(dòng)的以0.01度的分辨率改變?nèi)肷浣嵌?/div>
5、高功率的DUV－VIS光源，能夠應(yīng)用在很寬的波段內(nèi)
6、基于陣列設(shè)計(jì)的探測(cè)器系統(tǒng)，以確?？焖贉y(cè)量
7、多可測(cè)量12層薄膜的厚度及折射率
8、能夠用于實(shí)時(shí)或在線的監(jiān)控光譜、厚度及折射率等參數(shù)
9、系統(tǒng)配備的光學(xué)常數(shù)數(shù)據(jù)及數(shù)據(jù)庫(kù)
10、對(duì)于每個(gè)被測(cè)薄膜樣品，用戶可以利用的TFProbe3.0軟件功能選擇使用NK數(shù)據(jù)庫(kù)、也可以進(jìn)行色散或者復(fù)合模型（EMA）測(cè)量分析；
11、三種不同水平的用戶控制模式：模式、系統(tǒng)服務(wù)模式及初級(jí)用戶模式
12、靈活的模式可用于各種*的設(shè)置和光學(xué)模型測(cè)試
13、健全的一鍵按鈕(Turn－key)對(duì)于快速和日常的測(cè)量提供了很好的解決方案
14、用戶可根據(jù)自己的喜好及操作習(xí)慣來(lái)配置參數(shù)的測(cè)量
15、系統(tǒng)有著全自動(dòng)的計(jì)算功能及初始化功能
16、無(wú)需外部的光學(xué)器件，系統(tǒng)從樣品測(cè)量信號(hào)中，直接就可以對(duì)樣品進(jìn)行的校準(zhǔn)
17、可精密的調(diào)節(jié)高度及傾斜度
18、能夠應(yīng)用于測(cè)量不同厚度、不同類(lèi)型的基片
19、各種方案及附件可用于諸如平面成像、測(cè)量波長(zhǎng)擴(kuò)展、焦斑測(cè)量等各種特殊的需求
20、2D和3D的圖形輸出和友好的用戶數(shù)據(jù)管理界面。
