-
- AT2Lumina薄膜缺陷檢測(cè)儀
Lumina AT2薄膜缺陷檢測(cè)儀實(shí)現(xiàn)亞納米薄膜涂層、納米顆粒、劃痕、凹坑、凸起、應(yīng)力點(diǎn)和其他缺陷的全表面掃描和成像。實(shí)用于透明、硅、化合物半導(dǎo)體和金屬基底。在2分鐘內(nèi)掃描并顯示300毫米晶圓。動(dòng)態(tài)補(bǔ)償表面翹曲??梢詷?biāo)刻出缺陷的位置,以便進(jìn)一步分析??扇菁{高達(dá)450 x 450 mm的非圓形和易碎基板。能夠通過(guò)一次掃描分離透明基板上的頂部/底部特征。
- 型號(hào):AT2
- 更新日期:2024-06-28 ¥59
-
- AT1Lumina薄膜缺陷檢測(cè)儀
Lumina AT1薄膜缺陷檢測(cè)儀實(shí)現(xiàn)亞納米薄膜涂層、納米顆粒、劃痕、凹坑、凸起、應(yīng)力點(diǎn)和其他缺陷的全表面掃描和成像。實(shí)用于透明、硅、化合物半導(dǎo)體和金屬基底。在3分鐘內(nèi)掃描并顯示150毫米晶圓。可以標(biāo)刻出缺陷的位置,以便進(jìn)一步分析。 可容納高達(dá)300 x 300 mm的非圓形和易碎基板。 能夠通過(guò)一次掃描分離透明基板上的頂部/底部特征。
- 型號(hào):AT1
- 更新日期:2024-06-28 ¥59
共 2 條記錄,當(dāng)前 1 / 1 頁(yè) 首頁(yè) 上一頁(yè) 下一頁(yè) 末頁(yè) 跳轉(zhuǎn)到第頁(yè)